우리 대학 일반대학원 지능형반도체 및 디스플레이학과 석사과정 방하영 학생이 제 30회 한국반도체학술대회(KCS)로부터 최우수논문상을 수상하였다. 

수상한 논문은 ‘Investigation of dynamic negative bias temperature instability of 1x-nm DRAM peripheral PMOS transistors for cryogenic memory applications [극저온 메모리 동작을 위한 1x-nm DRAM peri pMOS 트랜지스터의 동적 negative 바이어스 신뢰성 연구]’이다.
데이터의 양이 점점 증가하며, 다량의 데이터 계산의 한계를 극복하기 위해 고성능/저전력 컴퓨팅 기술에 대한 수요가 증가하고 있다. 이에 따라 차세대 기술로써 양자컴퓨터를 구축해야 하지만, 양자컴퓨터는 노이즈에 매우 민감하기 때문에 극저온 환경에서 안정적인 동작이 요구된다. 
한편, DRAM은 극저온 환경에서 가장 안정적으로 동작하는 메모리 중 하나이고, CMOS 인버터 구동 중 pMOSFET에 negative 스트레스가 가해짐에 따라 소자는 점차 열화된다. 
 

본 연구에서는 극저온을 포함한 전 온도에서 구동조건에서의 신뢰성을 분석하고, 소자의 gate oxide 두께에 따른 열화 원인을 제시하여 산업계 및 학계의 관심을 함께 받았다. 또한, 학문적인 완성도를 인정받아 최우수 논문상을 수상하였다.
 

‘한국반도체학술대회’는 역사와 전통을 자랑하는 국내 최대의 반도체 전문 학술대회로, 올해 제30회는 SK 하이닉스와 한국반도체산업협회, 한국반도체연구조합이 공동으로 주관하였다. 본 우수상은 총 1,172편의 발표논문 중 2편을 엄선하는 수상작 중 1등 상에 해당되는 쾌거로서, 본 상의 시상은 2024년 1월 개최되는 제30회 한국반도체학술대회에서 진행되었다.

방하영 석사과정생은 창의공과대학 전자공학부의 학부과정을 2023년 2월에 졸업했다. 현재 석사과정 3학기에 재학중이며, 김대환 교수가 SAMSUNG 및 LG display와 진행 중인 산학협력과제에 핵심연구원으로 참여중이다.

한편, 지능형반도체 및 디스플레이 연구실(SILK, Semiconductor devices & Integrated circuits Lab @KMU: https://silk.kookmin.ac.kr/)은 전자공학부 김동명 교수, 김대환 교수, 최성진 교수, 배종호 교수의 4인 공동 연구실로, 미래창조과학부 선도연구센터지원사업인 “하이브리드 디바이스를 이용한 일주기 ICT 연구센터(센터장: 김대환 교수)”에서 반도체 및 센서 공정 및 소자 그룹을 담당하고 있으며, 현재 34명의 석박사과정 학생과 3명의 학부인턴이 공동연구를 수행 중에 있고, 세계 반도체 산업계 및 학계에서 활약 중인 132여명의 석.박사 동문들을 배출한 바 있다.